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Masque à décalage de phase  Cet article est une ébauche concernant les techniques, les sciences appliquées ou la technologie et l’optique. Vous pouvez partager vos connaissances en l’améliorant (comment ?) selon les recommandations des projets correspondants.
 En lithographie, un masque à décalage de phase ou PSM (Phase Shift Mask en anglais) est un masque photographique qui module en phase la lumière incidente de façon à réaliser une interférence, ce qui lui permet d'offrir une meilleure résolution qu'un masque binaire. Il existe des masques à décalage de phase atténués (attenuated PSM), alternés (alternating PSM) et sans chrome (chromeless PSM). Voir aussiInformation related to Masque à décalage de phase |
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